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Rolith公司展示了使用专利毫微光刻技术制造的ITO替代材料透明金属网格电极的出色性能
录入时间:2013/8/12 14:19:12

加利福尼亚州普莱森顿(2013812日),Rolith公司是高级纳米设备开发的领导者,日前宣布成功展示了采用破坏性毫微光刻方法(滚动掩模光刻 – RMLTM)的金属网格电极技术。

我们看到用于消费电子市场的触摸显示屏出现了爆炸性增长。到目前为止,ITO(铟钛氧化物)材料是用于透明电极的标准解决方案。除了成本过高和材料供应有限之外,它还存在其他问题:这种材料的高反射率降低了对比率、光学性质极快降级至50 Ω/以下,从而限制了使用ITO生产而不使性能降级的显示屏大小。 

ITO的唯一可行替代材料(和大型触摸显示屏的唯一解决方案)是金属线网格。对金属线网格的要求是人眼无法看到,这意味着线宽要小于2微米。此外,窄线有助于应对摩尔效应,金属线网格的叠加和显示屏的像素结构会造成这一效应。

Rolith公司采用了名为滚动掩模光刻 (RMLTM) 的专利毫微光刻技术,以制造用于大型基材的透明金属线网格电极。RML基于近场连续光学光刻,使用圆柱相掩模进行操作。

玻璃基材上的透明金属电极以亚微米宽纳米线的形式制造,以数十微米的间隔光刻到规则的2维网格图案,厚度为几百毫微米。经过检测,人眼无法看到此类金属结构,极为透明(超过94%的传递),雾度极低 (~2%),同时电阻率低 (<14 Ohm/)。这组参数使得Rolith技术领先于ITO替代技术的所有主要竞争技术。

2RML工具能够制造最多1 m长的基材。今年早些时候制造的工具已被用于展示这一技术。

Rolith仅在几个月前推出其透明金属网格电极应用开发,我们对目前达到的结果感到非常兴奋。我们相信,我们的突破性技术将为移动设备和大格式显示屏、监视器和电视带来经济高效的高质量触摸屏。目前,Rolith正与一些触摸示屏制造商讨论有关合作事预计在未来1年内将技化。我的路线图还包括于2014-2015年将一技用于柔性基材。”公司始人兼首席行官Boris Kobri博士表示。他充道:“Rolith将在国触控面板光学膜展会(“Touch Taiwan 2013)(展台是N126)和2013年美国印刷子展会(展台是AA18)上展出其突破性技。”


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